
Ingenieure Institut für Technologie in Massachusetts (MIT) haben in den USA einen ultrakleinen Transistor entwickelt, der kaum 22 Nanometer und könnte mit den Siliziummikrochips, gemäß einem vom MIT veröffentlichten Artikel.
Der neue Rekord der Miniaturisierung wurde durch die Verwendung von Verbundmaterial möglich, Indianerarsenid und Gallium, das bisher in den Bereichen Radartechnik, Laser und Glasfaserkommunikation bekannt ist.
"Je mehr Transistoren auf einem Chip brennen, desto stärker ist es und desto mehr Funktionen kann es erfüllen," sagte er. Jesus des Alamo, Professor der Abteilung Elektrotechnik Mitverfasser der Erfindung. Der neue Transistor ist seiner Ansicht nach ein vielversprechender Kandidat, um Silizium in allen Arten von Computergeräten zu ersetzen.
Matthias Passlack von der taiwanesischen Firma TSMC betonte, dass die Arbeit von Del Alamo einen Meilenstein in der Halbleiterstudie markiert. "Er und sein Team haben experimentell bewiesen, dass indische Arsenidkanäle besser sind als Silizium in kleinen Geräten."
Nächste Schritte
Der nächste Schritt ist die Verbesserung der elektrisches Verhalten und damit die Geschwindigkeit des Transistors, indem unerwünschten Widerstand in sich entfernt wird. Wenn dieses Ziel erreicht ist, werden die Ingenieure versuchen, seine Größe auf weniger als 10 Nanometer reduzieren.
Die Forscher werden die Ergebnisse ihrer Arbeit auf einer internationalen Konferenz über elektronische Geräte präsentieren, die diese Woche in San Francisco stattfinden wird.
Bild (Quelle MIT): Elektronische Mikrografie eines Querschnitts des hergestellten Transistors. Das umgekehrte Zentrum V ist die Tür. Die beiden Molybdänkontakte auf beiden Seiten sind die Quelle und der Transistor-Drainer.
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